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      高端精密光學國產(chǎn)替代趨勢確定--蔡司

      近年來國家戰(zhàn)略持續(xù)向高端制造、自主可控傾斜,高端精密光學國產(chǎn)替代趨勢確定??春脟鴥?nèi)廠商不斷突破核心技術(shù),加快實現(xiàn)高端精密光學國產(chǎn)替代進程。

      蔡司是全球光學行業(yè)標桿企業(yè)。蔡司成立于1846年,至今已有177年歷史。蔡司以生產(chǎn)顯微鏡起家,逐漸形成半導體制造技術(shù)、工業(yè)質(zhì)量與研究、醫(yī)療技術(shù)和光學消費品市場四大業(yè)務(wù)板塊,業(yè)務(wù)遍及全球近50個國家和地區(qū),擁有約30個生產(chǎn)工廠、60家銷售和服務(wù)公司以及27個研發(fā)基地,是光學和光電子領(lǐng)域的全球標桿企業(yè)。

      生產(chǎn)顯微鏡起家,逐步拓展產(chǎn)品矩陣。1847年,公司開始生產(chǎn)顯微鏡;1890年,發(fā)布第一款相機光學鏡頭,切入光學消費品領(lǐng)域;1908年,開始轉(zhuǎn)向眼科測量儀器的研發(fā),進入醫(yī)療光學領(lǐng)域;1931年,開始研制電子顯微鏡,豐富了工業(yè)領(lǐng)域的產(chǎn)品矩陣;1968年,為Telefunken生產(chǎn)用于光刻的新型光學器件,標志著公司進入半導體制造領(lǐng)域。

      布局四大業(yè)務(wù)板塊,產(chǎn)品矩陣豐富。公司業(yè)務(wù)可劃分為四個部分,共九個戰(zhàn)略業(yè)務(wù)單元:

      半導體制造技術(shù)(SemiconductorManufacturingTechnology):包括光刻光學、光掩膜系統(tǒng)和過程控制解決方案,覆蓋了微芯片生產(chǎn)的各種關(guān)鍵工藝。

      工業(yè)質(zhì)量與研究(IndustrialQuality&Research):1)工業(yè)質(zhì)量檢測:例如坐標測量機、三維X射線檢測設(shè)備等,被廣泛用于汽車、工業(yè)、飛機建造、塑料工業(yè)等領(lǐng)域,提供生產(chǎn)質(zhì)量檢測;2)科學研究顯微鏡:包含光學、電子、離子、X射線顯微鏡,被廣泛用于生命科學、材料研究、以及制藥等行業(yè)。

      醫(yī)療技術(shù)(MedicalTechnology):包含眼科手術(shù)器械和手術(shù)顯微鏡及可視化系統(tǒng)。

      消費市場(ConsumerMarkets):包含視覺護理、攝影、運動光學等。蔡司是世界上最大的眼鏡鏡片制造商之一,除此之外,還為客戶提供相機和電影鏡頭、望遠鏡等高端產(chǎn)品。

      業(yè)績實現(xiàn)穩(wěn)定增長,持續(xù)投入高研發(fā)。蔡司過去20年業(yè)績穩(wěn)步增長,2002-22年營收CAGR7.0%、凈利潤CAGR15.8%。近幾年隨著半導體光刻需求快速增加,公司業(yè)績加速增長。22財年收入突破80億歐元,達到87.54億歐元,同比16.28%,歸母凈利潤11.55億歐元,同比10.34%。22財年公司研發(fā)費用率達13%,研發(fā)上保持高投入保證競爭優(yōu)勢。

      圖:蔡司營業(yè)收入及同比

      半導體制造技術(shù)占比持續(xù)提升。22財年,受益于下游旺盛需求,四大板塊業(yè)務(wù)收入均實現(xiàn)二位數(shù)增長,分別同比增長20.0%、14.7%、15.4%、12.6%。其中,半導體制造技術(shù)業(yè)務(wù)由于下游光刻需求快速增加,近兩年增長加速,收入占比超過30%。

      發(fā)展歷程:由于光刻機直接決定了晶體管尺寸,而晶體管尺寸對于芯片的性能起決定性作用。因此在半導體產(chǎn)業(yè)不斷追求芯片尺寸更小、性能更強的背景之下,光刻機也不斷創(chuàng)新迭代。從最早的普通光源到使用193nm波長的DUV激光,再到13.5nm的EUV激光,制程節(jié)點已提升到7-3nm。據(jù)ASML,下一代EUV0.55NA光刻系統(tǒng)(將數(shù)值孔徑從0.33提升至0.55)預計2025年投產(chǎn),進一步提高芯片生產(chǎn)效率。

      市場格局:全球光刻機市場三足鼎立,AMSL龍頭地位凸顯。全球前道設(shè)備光刻機市場已基本被ASML、尼康、佳能所壟斷,2022年三家光刻機廠商合計出貨量達551臺。按平均售價測算,2022年全球市場規(guī)模達189億美元。其中,ASML獨占鰲頭,22年實現(xiàn)光刻機出貨345臺,其中EUV光刻機出貨40臺,系EUV唯一供應(yīng)商。據(jù)ASML,公司未來將大幅提升產(chǎn)能,預計2025-26年將實現(xiàn)年產(chǎn)90臺EUV光刻機和600臺DUV光刻機,并且在2027-28年增產(chǎn)20臺HighNAEUV光刻機,未來市場潛力巨大。

      光刻機主要包含五大核心基礎(chǔ)硬件模組:

      1)光學系統(tǒng):包含光源模組(Source)、照明模組(illuminationmodule)和物鏡模組(Optics)。紫外光從光源模組生成之后,被導入到照明模組,該系統(tǒng)要對光的能量、均勻度、形狀進行檢測和控制),光穿過光罩后,物鏡模組將影像聚焦成像在晶圓表面的光阻層上;

      2)光罩模組:分為光罩傳送模組(ReticleHandler)及光罩平臺模組(ReticleStage)。光罩傳送模組負責將光罩由光罩盒一路傳送到光罩平臺模組,而光罩平臺模組負責承載及快速來回移動光罩。

      3)晶圓模組:分為晶圓傳送模組(WaferHandler)及晶圓平臺模組(WaferStage)。晶圓傳送模組負責將晶圓由光阻涂布機一路傳送到晶圓平臺模組,而晶圓平臺模組(一般是雙平臺)負責承載晶圓及精準定位晶圓來曝光。

      光學系統(tǒng)是光刻機最核心的模塊,決定光刻機的工藝能力:

      1)光源:光刻機的工藝能力首先取決于光源的波長。在摩爾定律驅(qū)動下,光刻設(shè)備由從最早的普通光源到使用193nm波長的DUV激光,再到13.5nm的EUV激光,制程節(jié)點已提升到7-3nm。

      2)照明系統(tǒng):照明系統(tǒng)位于光源和物鏡系統(tǒng)之間,通過調(diào)制,為掩膜提供成像曝光所需的照明模式和照明光場。照明系統(tǒng)主要包括擴束單元、光束整形單元、勻光單元以及照明物鏡四個關(guān)鍵部分,其主要作用是提供高均勻性照明、控制曝光劑量和實現(xiàn)離軸照明,以提高光刻分辨率和增大焦深。

      3)物鏡系統(tǒng):物鏡系統(tǒng)作為“光刻機之眼”,決定了光刻機分辨率以及套值誤差能力。通過大直徑物鏡可提升數(shù)值孔徑從而提高光刻機分辨率,通過多鏡片組合可修正圖像的形變從而提高成像質(zhì)量。目前ASMLDUV光刻機中先進機種投影物鏡的高度超過1米,直徑大于40厘米,物鏡內(nèi)各種鏡片的數(shù)量超過15片。

      高精密光學鏡頭作為“光刻機之眼”,是光刻機最核心部件。高數(shù)值孔徑的鏡頭決定光刻機分辨率以及套值誤差能力。蔡司憑借著自身在光學設(shè)計、加工、檢測環(huán)節(jié)的深厚技術(shù)積累,是ASMLEUV極紫外光刻機鏡頭唯一供應(yīng)商。目前,由蔡司生產(chǎn)的最新一代EUV光刻機反射鏡最大直徑1.2米,面形精度峰谷值0.12納米,表面粗糙度20皮米(=0.02納米=0.2埃),比很多原子的直徑都要小,也就是說達到了原子級別的平坦。憑借自身的先發(fā)優(yōu)勢和技術(shù)優(yōu)勢,蔡司在光刻機鏡頭市場地位顯著,市占率達到80%。

      國內(nèi)眼科器械市場需求大,市場呈現(xiàn)進口壟斷。伴隨著青少年屈光不正患病率提高,中老年白內(nèi)障手術(shù)量增加,我國眼科器械市場增長迅速,據(jù)貝殼研究院,2021年市場規(guī)模達375億元,2017-21年CAGR為18.5%。而眼科醫(yī)療設(shè)備行業(yè)技術(shù)壁壘高,呈現(xiàn)極高的進口壟斷率,蔡司、愛爾康、拓普康等海外公司占據(jù)絕大部分市場份額。

      電子顯微鏡:市場保持穩(wěn)步增長,競爭格局相對穩(wěn)定

      市場規(guī)模:近年來隨著全球?qū)ι茖W、材料研究的探索和研究持續(xù)深入,以及對半導體需求不斷擴大等,推動了高校、科研院所、半導體工業(yè)等領(lǐng)域?qū)﹄娮语@微鏡的需求,全球電子顯微鏡行業(yè)市場規(guī)模呈不斷增長趨勢。據(jù)日本電子數(shù)據(jù),2020年全球電子顯微鏡市場規(guī)模為27.64億美元,預計2026年將達到38.87%,2021-26年CAGR為5.8%。其中,掃描電子顯微鏡為主要細分市場,占比74%。而透射電鏡則由于技術(shù)水平和價格高、操作難度大,分辨率可達原子級別,主要對樣品晶體結(jié)構(gòu)進行分析等,應(yīng)用市場還尚未完全打開和釋放,故總體規(guī)模還較小,占全球電鏡的26%左右。

      競爭格局:從行業(yè)參與者情況來看,由于技術(shù)水平較高、資金/人才投入大等因素影響,全球電子顯微鏡參與企業(yè)較少。目前,全球電鏡市場競爭格局基本穩(wěn)定,形成了賽默飛(含F(xiàn)EI)、日本電子、日立高新、蔡司、TESCAN、COXEM等幾大電鏡巨頭。

      國產(chǎn)替代:近年來,中國掃描電子顯微鏡市場規(guī)模呈現(xiàn)逐年增長的態(tài)勢且增速較快,均在10%左右。2020年,中國掃描電子顯微鏡市場規(guī)模實現(xiàn)16.72億元,受疫情影響,各單位對于掃描電子顯微鏡等科學儀器的采購預算增幅有所下調(diào),故其同比增長率較2018-19年略有下滑,僅為9.21%。但由于國內(nèi)掃描電子顯微鏡的技術(shù)水平與國際先進水平有一定差距,中國的掃描電子顯微鏡行業(yè)市場主要被海外知名掃描電子顯微鏡生產(chǎn)企業(yè)所占據(jù),市場集中度較高,CR4在75%以上,其中蔡司市占率為22%,排名第一。

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