2023掩膜版行業(yè)應(yīng)用前景及未來(lái)投資趨勢(shì)分析

• 吳澳燕 2023年9月25日 來(lái)源：互聯(lián)網(wǎng) 560 31
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掩膜版，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過(guò)程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。

掩膜版，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過(guò)程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。

掩膜版通常由基板和遮光膜組成，其中最重要的原材料是掩膜基板?；逡r底在透光性及穩(wěn)定性等方面性能要求較高，須做到表面平整，無(wú)夾砂、氣泡等微小缺陷。由于石英玻璃的化學(xué)性能穩(wěn)定、光學(xué)透過(guò)率高、熱膨脹系數(shù)低，近年來(lái)已成為制備掩膜版的主流原材料，被廣泛應(yīng)用于超大規(guī)模集成電路掩膜版制作。

掩膜版制造工藝復(fù)雜，加工工藝流程主要包括 CAM 圖檔處理、光阻涂布、激光光刻、顯影、蝕刻、脫膜、清洗、宏觀檢查、 自動(dòng)光學(xué)檢查、精度測(cè)量、缺陷處理、貼光學(xué)膜等環(huán)節(jié)，其中光刻技術(shù)是掩膜版制造的重要環(huán)節(jié)。

根據(jù)不同的分類方式，掩膜版可分為不同的類型，其中，按應(yīng)用領(lǐng)域分類，可分為半導(dǎo)體芯片、平板顯示、電路板和觸控等類型。自國(guó)內(nèi)第一張大面積高精度絡(luò)版掩膜版研發(fā)生產(chǎn)以來(lái)，我國(guó)掩膜版產(chǎn)業(yè)得到不斷發(fā)展，先后經(jīng)歷了萌芽階段、快速發(fā)展階段以及高質(zhì)量發(fā)展階段。

根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2023-2028年中國(guó)掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)及投資預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示：

掩膜版行業(yè)具有部分逆產(chǎn)業(yè)周期的特性，類似于機(jī)械制造業(yè)的模具，產(chǎn)品需求主要依賴下游行業(yè)的產(chǎn)品創(chuàng)新，跟下游產(chǎn)品的銷量和價(jià)格沒(méi)有直接聯(lián)系。

掩膜版主要應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片(IC)以及平板顯示(FPD)兩大下游領(lǐng)域，也有客戶采購(gòu)空白掩膜版進(jìn)行定制。2021 年全球平板顯示掩膜版的市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)為60億元，中國(guó)大陸占比約 52%。2016-2019年的復(fù)合增速高達(dá) 13.43%。

全球半導(dǎo)體材料市場(chǎng)規(guī)模近年來(lái)穩(wěn)步增長(zhǎng)，受需求提升疊加晶圓產(chǎn)能轉(zhuǎn)移帶動(dòng)，我國(guó)半導(dǎo)體材料市場(chǎng)規(guī)模加速提升。掩膜版是光刻過(guò)程中的核心耗材，從細(xì)分領(lǐng)域看，半導(dǎo)體掩膜版占比約12%，與電子特氣占比相當(dāng)。

2023掩膜版行業(yè)應(yīng)用前景及未來(lái)投資趨勢(shì)分析

掩膜版與下游終端行業(yè)的主流消費(fèi)電子、筆記本電腦、網(wǎng)絡(luò)通信、醫(yī)療電子的發(fā)展趨勢(shì)密切相關(guān)，因此受下游行業(yè)的影響較大。在平板顯示行業(yè)，消費(fèi)者對(duì)顯示產(chǎn)品的要求逐步提高，手機(jī)、平板電腦等移動(dòng)終端向著更高清、色彩度更飽和、更輕薄化發(fā)展。

在半導(dǎo)體芯片行業(yè)，我國(guó)半導(dǎo)體芯片從10納米向3納米不斷精進(jìn)。這將進(jìn)一步推動(dòng)掩膜版趨向精細(xì)化。同時(shí)隨著平板電視尺寸逐步擴(kuò)大，將不斷推動(dòng)掩膜版趨向大型化。相關(guān)企業(yè)為進(jìn)一步提高產(chǎn)品質(zhì)量，不斷推動(dòng)產(chǎn)業(yè)鏈向上游拓展。

在AMOLED用高精度掩膜版領(lǐng)域，由于核心技術(shù)主要掌握在HOYA、SKE、PKL等境外廠商手中，這些企業(yè)對(duì)于掩膜版的關(guān)鍵技術(shù)進(jìn)行了較為嚴(yán)格的封鎖，所以導(dǎo)致境內(nèi)廠商在技術(shù)上與境外專業(yè)廠商相比存在一定的差距。

由于看好掩膜版中長(zhǎng)期旺盛需求，多家掩膜版企業(yè)紛紛擴(kuò)產(chǎn)，以搶占市場(chǎng)份額。臺(tái)灣光罩計(jì)劃投資60億元新臺(tái)幣進(jìn)行擴(kuò)產(chǎn)，以滿足客戶訂單需求。同時(shí)，在技術(shù)推進(jìn)上，該公司現(xiàn)階段65-130納米制程的掩膜版進(jìn)入量產(chǎn)階段。清溢光電深圳工廠在2022年引進(jìn)半導(dǎo)體芯片用掩膜版光刻機(jī)及配套設(shè)備，從而提升第三代半導(dǎo)體用掩膜版的產(chǎn)能需求。路維光電在2022年8月成功登陸科創(chuàng)板，募集資金4.05億元，將用于擴(kuò)建高精度半導(dǎo)體掩膜版與大尺寸平板顯示掩膜版產(chǎn)能。

掩膜版屬于精密度較高的定制化產(chǎn)品，具有較高的技術(shù)門檻。掩膜版主要應(yīng)用于平板顯示、半導(dǎo)體芯片、電路板和觸控等行業(yè)，需要在圖形設(shè)計(jì)處理、光刻工序工藝、顯影蝕刻工序工藝、測(cè)量和檢查分析技術(shù)、缺陷控制與修補(bǔ)和潔凈室建設(shè)等領(lǐng)域積累大量的技術(shù)，掩膜版技術(shù)跨越多個(gè)技術(shù)和學(xué)科領(lǐng)域，無(wú)論從基礎(chǔ)理論還是研發(fā)、設(shè)計(jì)和制造等方面，都需要掩膜版廠商具備較高的技術(shù)水平。

由于掩膜版行業(yè)具有較高的技術(shù)門檻，市場(chǎng)主要參與者主要為境內(nèi)外知名企業(yè)，市場(chǎng)集中度較高，未來(lái)競(jìng)爭(zhēng)格局將較為穩(wěn)定。

掩膜版成本構(gòu)成以直接材料和制造費(fèi)用為主，分別占比 67%和 29%。其中直接材料主要包括掩膜版基板、遮光膜及其他輔助材料等，掩膜版基板占直接材料的比重超過(guò) 90%。

隨著工藝技術(shù)創(chuàng)新步伐加快，芯片加速邁向先進(jìn)制程，半導(dǎo)體掩膜版制程同步提升，毛利率加速改善。SEMI預(yù)計(jì)2025年中國(guó)半導(dǎo)體材料市場(chǎng)有望達(dá)到200億美元，保守估計(jì)本土掩膜版的份額有望在2025年突破26億美元。

本研究咨詢報(bào)告由中研普華咨詢公司領(lǐng)銜撰寫，在大量周密的市場(chǎng)調(diào)研基礎(chǔ)上，主要依據(jù)了國(guó)家統(tǒng)計(jì)局、國(guó)家商務(wù)部、國(guó)家發(fā)改委、國(guó)家經(jīng)濟(jì)信息中心、國(guó)務(wù)院發(fā)展研究中心、國(guó)家海關(guān)總署、全國(guó)商業(yè)信息中心、中國(guó)經(jīng)濟(jì)景氣監(jiān)測(cè)中心、中國(guó)行業(yè)研究網(wǎng)、國(guó)內(nèi)外相關(guān)報(bào)刊雜志的基礎(chǔ)信息、行業(yè)研究單位等公布和提供的大量資料以及對(duì)行業(yè)內(nèi)企業(yè)調(diào)研訪察所獲得的大量第一手?jǐn)?shù)據(jù)，對(duì)我國(guó)掩膜版市場(chǎng)的發(fā)展?fàn)顩r、供需狀況、競(jìng)爭(zhēng)格局、贏利水平、發(fā)展趨勢(shì)等進(jìn)行了分析。

更多行業(yè)詳情請(qǐng)點(diǎn)擊中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2023-2028年中國(guó)掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)及投資預(yù)測(cè)報(bào)告》。

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  2023-2028年中國(guó)掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)及投資預(yù)測(cè)報(bào)告

  掩膜版，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過(guò)程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。掩膜上承載著設(shè)計(jì)圖形，光源投...

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