掩膜版市場(chǎng)近年來(lái)持續(xù)增長(zhǎng)，是全球半導(dǎo)體和平板顯示等產(chǎn)業(yè)的重要組成部分。根據(jù)SEMI等機(jī)構(gòu)的測(cè)算，2022年全球掩膜版市場(chǎng)規(guī)?；厣?2億美元，初步測(cè)算2023年整體市場(chǎng)規(guī)模約為54億美元。

在具體應(yīng)用領(lǐng)域，半導(dǎo)體掩膜版市場(chǎng)規(guī)模也穩(wěn)步增長(zhǎng)。據(jù)觀研天下數(shù)據(jù)中心整理的數(shù)據(jù)，2023年全球半導(dǎo)體掩模版市場(chǎng)規(guī)模為95.28億美元，其中中國(guó)市場(chǎng)規(guī)模約為17.78億美元，占全球市場(chǎng)的18.66%。

根據(jù)中研普華研究院撰寫的《2023-2028年中國(guó)掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)及投資預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示：

掩膜版行業(yè)發(fā)展預(yù)測(cè)

掩膜版是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過(guò)程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。

掩膜上承載著設(shè)計(jì)圖形，光源投過(guò)掩膜并將圖形投影在光刻膠智商。因此掩膜性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。目前制程制程用較為常用的工藝為投影式光刻，掩膜不直接與晶圓表面接觸。

掩膜版主要應(yīng)用于平板顯示、半導(dǎo)體、觸控和電路板等制造過(guò)程，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識(shí)產(chǎn)權(quán)信息的載體。其中，半導(dǎo)體掩膜版在IC領(lǐng)域需求占比最高，達(dá)60%。隨著新興應(yīng)用領(lǐng)域的不斷增長(zhǎng)，如5G、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能等技術(shù)的普及，掩膜版產(chǎn)品的應(yīng)用場(chǎng)景也將不斷擴(kuò)大。

中國(guó)作為全球主要的半導(dǎo)體和平板顯示生產(chǎn)基地，掩膜版市場(chǎng)需求旺盛。近年來(lái)，中國(guó)掩膜版市場(chǎng)規(guī)?？焖僭鲩L(zhǎng)，從2019年的87億美元增長(zhǎng)至2022年的129.7億美元，年復(fù)合增長(zhǎng)率為14.24%。預(yù)計(jì)2023年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到148.2億美元。

在平板顯示掩膜版領(lǐng)域，中國(guó)市場(chǎng)規(guī)模已超過(guò)韓國(guó)成為全球第一。根據(jù)數(shù)據(jù)，2022年中國(guó)平板顯示掩膜版市場(chǎng)規(guī)模全球占比達(dá)到58%，預(yù)計(jì)2025年將超過(guò)60%。

高端半導(dǎo)體掩模版技術(shù)突破

掩膜版制造技術(shù)不斷進(jìn)步，主要體現(xiàn)在高精度、高密度、高良率等方面。高精度制造可以提高掩膜版的尺寸精度，減少誤差，從而提高生產(chǎn)效率。高密度制造則可以提高掩膜版的抗劃痕、抗腐蝕等性能，延長(zhǎng)其使用壽命。此外，隨著納米技術(shù)、光刻技術(shù)等關(guān)鍵技術(shù)的不斷進(jìn)步，掩膜版的制造精度和效率將得到進(jìn)一步提升。

近年來(lái)，中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)憑借巨大的市場(chǎng)需求、豐富的人口紅利、穩(wěn)定的經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)及有利的產(chǎn)業(yè)政策環(huán)境等眾多優(yōu)勢(shì)條件，實(shí)現(xiàn)了快速發(fā)展。從產(chǎn)業(yè)鏈角度看，上游的半導(dǎo)體設(shè)備和材料具有較高的產(chǎn)業(yè)壁壘，多領(lǐng)域落后較大，國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊，持續(xù)受到高度重視和國(guó)家產(chǎn)業(yè)政策的重點(diǎn)支持。

由于半導(dǎo)體掩模版對(duì)于技術(shù)研發(fā)和生產(chǎn)工藝控制水平的要求較高，國(guó)內(nèi)起步較晚，長(zhǎng)期以來(lái)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體掩模版市場(chǎng)份額主要由國(guó)際巨頭所占據(jù)。龍圖光罩作為國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的半導(dǎo)體掩模版企業(yè)，以當(dāng)前特色工藝半導(dǎo)體市場(chǎng)為切入點(diǎn)，緊扣國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體廠商生產(chǎn)需求，不斷提升掩模版工藝技術(shù)水平和客制化服務(wù)能力，逐步成為國(guó)內(nèi)多個(gè)大型特色工藝晶圓廠商的合格供應(yīng)商，在部分工藝節(jié)點(diǎn)上占據(jù)了境外半導(dǎo)體掩模版廠商的市場(chǎng)份額。目前龍圖光罩已完成申購(gòu)，即將成功登陸上交所科創(chuàng)板。

從外部看，特色工藝半導(dǎo)體技術(shù)更新及終端市場(chǎng)需求增長(zhǎng)，帶來(lái)半導(dǎo)體掩模版持續(xù)大量需求，同時(shí)，隨著美國(guó)貿(mào)易限制，為了產(chǎn)業(yè)鏈安全，國(guó)內(nèi)晶圓制造廠商均紛紛尋求國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體掩模版廠商進(jìn)行配套以擺脫對(duì)境外供應(yīng)商的依賴。

掩膜版未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)

全球掩膜版市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局高度集中，主要被日本、美國(guó)等國(guó)家的企業(yè)所控制。在半導(dǎo)體掩膜版領(lǐng)域，美國(guó)Photronics、日本Toppan和日本DNP等公司占據(jù)主要市場(chǎng)份額。在平板顯示掩膜版領(lǐng)域，SKE、HOYA、LG-IT等公司也占據(jù)重要地位。

中國(guó)掩膜版市場(chǎng)雖然起步較晚，但近年來(lái)發(fā)展迅速，涌現(xiàn)出一批優(yōu)秀的本土企業(yè)，如清溢光電、路維光電等。這些企業(yè)在技術(shù)研發(fā)、市場(chǎng)拓展等方面取得了顯著成績(jī)，逐步打破了國(guó)外企業(yè)的壟斷地位。

隨著全球電子產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，尤其是半導(dǎo)體、顯示面板等關(guān)鍵領(lǐng)域的持續(xù)創(chuàng)新，掩膜版作為電子制造的重要工具，其需求將會(huì)繼續(xù)增加。新技術(shù)的不斷涌現(xiàn)，對(duì)掩膜版精度和質(zhì)量的要求也越來(lái)越高。這將推動(dòng)掩膜版制造企業(yè)不斷加大研發(fā)投入，提升技術(shù)水平，以滿足市場(chǎng)需求。

掩膜版產(chǎn)業(yè)的發(fā)展與其下游行業(yè)的發(fā)展密切相關(guān)。未來(lái)，隨著產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)的協(xié)同發(fā)展，掩膜版產(chǎn)業(yè)將迎來(lái)更加廣闊的發(fā)展前景。

綜上，掩膜版市場(chǎng)具有廣闊的發(fā)展前景和巨大的市場(chǎng)潛力。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓展，掩膜版市場(chǎng)將持續(xù)保持增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。

在激烈的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中，企業(yè)及投資者能否做出適時(shí)有效的市場(chǎng)決策是制勝的關(guān)鍵。中研網(wǎng)撰寫的掩膜版行業(yè)報(bào)告對(duì)中國(guó)掩膜版行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、競(jìng)爭(zhēng)格局及市場(chǎng)供需形勢(shì)進(jìn)行了具體分析，并從行業(yè)的政策環(huán)境、經(jīng)濟(jì)環(huán)境、社會(huì)環(huán)境及技術(shù)環(huán)境等方面分析行業(yè)面臨的機(jī)遇及挑戰(zhàn)。同時(shí)揭示了市場(chǎng)潛在需求與潛在機(jī)會(huì)，為戰(zhàn)略投資者選擇恰當(dāng)?shù)耐顿Y時(shí)機(jī)和公司領(lǐng)導(dǎo)層做戰(zhàn)略規(guī)劃提供準(zhǔn)確的市場(chǎng)情報(bào)信息及科學(xué)的決策依據(jù)，同時(shí)對(duì)政府部門也具有極大的參考價(jià)值。

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